Čo je pórovitý grafit? - VeTek Semiconductor

Porézny grafitje umelý uhlíkový materiál obsahujúci sieť pórov vo svojej grafitovej štruktúre. Medzi jeho kľúčové vlastnosti patrí pórovitosť, distribúcia veľkosti pórov, priepustnosť, objemová hmotnosť a tepelné vlastnosti. Pri výrobe polovodičov sa vybrané vysoko čisté porézne grafitové komponenty používajú v systémoch rastu kryštálov karbidu kremíka (SiC) s fyzickým transportom pár (PVT) na podporu špecifických funkcií transportu plynu a tepelného poľa. Vlastnosti materiálu závisia od stupňa grafitu, štruktúry pórov, čistoty a prevádzkových podmienok.

Pórovitá štruktúra grafitu

Porézny grafit je produkt s poréznou štruktúrou vyrobený z grafitu ako základného materiálu. Jeho materiál je vyrobený z vysoko čistého grafitu. Fyzikálne parametre VeTek Semiconductor Porous Graphite sa líšia v závislosti od výrobného procesu a konkrétnej aplikácie. Nasledujú bežné fyzické parametre:

Porézny grafit je vyrobený z vysoko čistého grafitu a má vynikajúcu elektrickú vodivosť, tepelnú vodivosť, odolnosť voči vysokej teplote, odolnosť proti oxidácii, chemickú stabilitu a ďalšie vlastnosti. Je široko používaný v priemysle spracovania polovodičov.

V procese spracovania polovodičov sa pórovitý grafit široko používa v nasledujúcich aspektoch:

V kombinácii s vynikajúcou odolnosťou porézneho grafitu voči vysokým teplotám a chemickou stabilitou, ako je dobrá odolnosť voči korózii voči väčšine chemikálií, ako sú kyseliny, zásady a rozpúšťadlá, sa pórovitý grafit často používa vo vysokoteplotných zariadeniach na spekanie a tepelné spracovanie. Porézny grafit môže byť napríklad použitý ako výstelka, izolačný materiál alebo nosný materiál pre vysokoteplotné pece.

navyše

Porézny grafitový komponent na rast SiC kryštálovmá vynikajúcu elektrickú vodivosť a tepelnú stabilitu, aby poskytoval rovnomerné tepelné pole a stabilné elektrické vlastnosti. Preto sa tento produkt často používa v difúznom alebo oxidačnom procese spracovania polovodičov ako zdroj difúzie alebo elektródový materiál.

Porézna štruktúra porézneho grafitu dokáže filtrovať a čistiť plyny používané pri spracovaní polovodičov, znižovať možnú kontamináciu časticami a zaisťovať vysokú čistotu počas spracovania. Vďaka svojej poréznej štruktúre a dobrej priepustnosti vzduchu môžu byť časti porézneho grafitu tiež použité ako základ a príslušenstvo vo vákuovom adsorpčnom systéme na upevnenie plátkov alebo iných komponentov prostredníctvom účinnej vákuovej adsorpcie.

Úpravou procesu spekania grafitu môže VeTek Semiconductorprispôsobiť porézne grafitové materiály s rôznymi veľkosťami pórov a pórovitosťou, aby vyhovovali rôznym požiadavkám na aplikácie.

                                                                                                  Porézny grafit                 Porézny grafit pre rast kryštálov SiC           Trojlístkový grafitový téglik

V skutočnosti má VeTek Semiconductor absolútne vedúce postavenie na čínskom trhu s grafitovými susceptormi potiahnutými sic, na trhu s grafitovými téglikmi potiahnutými tac a na trhu grafitových podnosov potiahnutých karbidom kremíka. VeTek Semiconductor je profesionálny čínsky výrobca, dodávateľ, továreň na špeciálne grafitové produkty, ako napr.Porézny grafit pre rast kryštálov SiC, Pyrolytický uhlíkový povlak, Sklovitý uhlíkový povlak, Izotropný grafit, Silikonizovaný grafitaGrafitová doska s vysokou čistotou. sme odhodlaní poskytovať pokročilé riešenia pre rôzne špeciálne grafitové produkty pre polovodičový priemysel.

Ak máte akékoľvek otázky alebo potrebujete ďalšie podrobnosti, neváhajte nás kontaktovať.

Mob/WhatsAPP: +86-180 6922 0752

E-mail: anny@veteksemi.com