Vnútri dielne na presné obrábanie CNC VETEK: Budovanie základov vysoko čistých polovodičových komponentov

Vstúpte do presnej CNC obrábacej dielne VeTek Semiconductor a budete svedkami tichej sily modernej výroby. Automatizované zariadenia pracujú v dokonalom rytme. Vysokorýchlostné vretená, vedené presnými CNC programami, pracujú v harmónii, pretože rezné nástroje vrstva po vrstve premieňajú studené surové polotovary na vysoko presné komponenty. Každá tolerancia je prísne kontrolovaná. Každý detail je skúmaný. So silou numerického riadenia vyrábame každý kvalifikovaný obrobok, ktorý bude neskôr slúžiť najnáročnejším polovodičovým procesom.

1. Presnosť, ktorá poháňa polovodiče novej generácie

V spoločnosti VeTek Semiconductor je CNC obrábanie oveľa viac ako len výrobný krok – je to kritický základ pre naše hlavné produktové portfólio. Od vysoko čistých grafitových substrátov až po zložité geometrie, naše možnosti obrábania priamo podporujú výrobu:

•CVD potiahnutý karbidom kremíka (SiC).grafitové susceptory a predhrievacie krúžky

•CVD potiahnutý karbidom tantalu (TaC).diverzné prstence, časti polmesiaca a planetárne susceptory

• Pevný SiCkomponenty a zaostrovacie krúžky

• Vysoko čisté grafitové časti tepelného poľa pre SiC epitaxiu, MOCVD a rast kryštálov

• Vlastné polovodičové procesné komponenty kompatibilné s hlavnými platformami (Aixtron, Veeco, LPE, ASM, Applied Materials)

Tieto komponenty vyžadujú ultra-tesné rozmerové tolerancie a výnimočnú integritu povrchu. Naša CNC dielňa zabezpečuje, že každý grafitový polotovar je opracovaný podľa presných špecifikácií predtým, ako dostane vysoko čisté CVD SiC alebo TaC povlaky – povlaky, ktoré trvalo dosahujú úrovne nečistôt pod 5 ppm.

2. Naše konkurenčné výhody

To, čo odlišuje VeTek Semiconductor, je náš plne integrovaný výrobný reťazec a hlboké technické znalosti:

Schopnosť jedného zastávky: Presné CNC obrábanie → vysokoteplotné čistenie → CVD SiC/TaC povlak → čistenie → prísne testovanie (GDMS, SIMS, SEM).

Pokročilé vybavenie a kapacita:12+ vysoko presných výrobných liniek a duálnych výskumných a vývojových centier, ktoré založil bývalý odborník z Čínskej akadémie vied.

Ultra vysoká čistota a spoľahlivosť:Nátery a materiály navrhnuté pre extrémne teploty, korozívne prostredie a nulovú kontamináciu časticami v epitaxných a MOCVD procesoch.

Úplné prispôsobenie:Komponenty obrábame a poťahujeme na základe vašich presných výkresov, čím zaisťujeme dokonalé prispôsobenie vašim platformám reaktorov.

Osvedčený systém kvality: Certifikované procesy ISO 9001 s prísnou kontrolou rozmerov a čistoty v každej fáze.

3. Od prázdneho k kritickému komponentu

Každý vysoko výkonný susceptor potiahnutý SiC alebo krúžok potiahnutý TaC začína tu – v našej dielni na presné CNC obrábanie. Studený grafitový polotovar je starostlivo tvarovaný pod vedením pokročilého numerického riadenia a potom transformovaný čistením a povlakom na komponent, ktorý vydrží tisíce procesných cyklov v najpokročilejších továrňach na výrobu polovodičov na svete.

V spoločnosti VeTek Semiconductor veríme, že skutočná presnosť začína dlho pred nanášacou komorou. Začína sa prvým rezom.

Preskúmajte celý náš sortimentCVD SiC povlaky, CVD TaC povlaky, pevný SiC, a vysoko čisté grafitové roztoky atVETEK.

Kontaktujte nás ešte dnes, aby ste prediskutovali vlastné obrábacie a náterové riešenia pre vaše aplikácie epitaxie, MOCVD alebo rastu kryštálov.