Služba podpory

VeTek Semiconductor dodáva vysokokvalitné monokryštálové doštičky a substráty z nitridu hliníka (AlN) pre polovodičové zariadenia s ultra širokým pásmovým odstupom novej generácie. S ultra širokým pásmovým odstupom približne 6,2 eV, vynikajúcou tepelnou vodivosťou, výnimočnou elektrickou izoláciou a vynikajúcou zhodou mriežky a tepelnej rozťažnosti s GaN sú doštičky AlN ideálne pre vysokovýkonné RF zariadenia, vysokonapäťovú výkonovú elektroniku a hlbokú ultrafialovú (DUV) optoelektroniku.

VETEK Professional Cleaning Service for CVD SiC Coated Graphite Parts je špecializovaná technická služba navrhnutá pre susceptory zariadení Aixtron / Veeco MOCVD a grafitové komponenty používané v epitaxných procesoch GaN / AlN / AlGaN. Náš vlastný čistiaci proces dôkladne eliminuje efekt povrchovej pamäte, obnovuje stabilný tok plynu v reaktore a prísne chráni 100 µm CVD SiC povlak s absolútnou nulovou stratou hrúbky a nulovými kovovými zvyškami.

Keďže dopyt po vysokocitlivých a nízkoenergetických meničoch MEMS rastie s rozširovaním 5G komunikácie, presných lekárskych zariadení a inteligentných nositeľných zariadení, naše PZT na Si/SOI doštičkách poskytuje kritické materiálové riešenie. Využitím pokročilých procesov nanášania tenkých vrstiev, ako je Sol-gel alebo naprašovanie, dosahujeme výnimočnú konzistenciu a vynikajúci piezoelektrický výkon na kremíkových substrátoch. Tieto doštičky slúžia ako základné jadro pre elektromechanickú premenu energie.

Rast kryštálov karbidu kremíka je základným procesom pri výrobe vysokovýkonných polovodičových zariadení. Stabilita, presnosť a kompatibilita zariadení na rast kryštálov priamo určuje kvalitu a výťažnosť ingotov karbidu kremíka. Na základe charakteristík technológie Physical Vapor Transport (PVT) spoločnosť Veteksemi vyvinula odporovú vykurovaciu pec na rast kryštálov karbidu kremíka, ktorá umožňuje stabilný rast 6-palcových, 8-palcových a 12-palcových kryštálov karbidu kremíka s plnou kompatibilitou s vodivými, poloizolačnými a materiálovými systémami typu N. Prostredníctvom presného riadenia teploty, tlaku a výkonu účinne znižuje defekty kryštálov, ako je EPD (Etch Pit Density) a BPD (Basal Plane Dislocation), pričom sa vyznačuje nízkou spotrebou energie a kompaktným dizajnom, ktorý spĺňa vysoké štandardy priemyselnej veľkovýroby.

CMP leštiaca kaša (Chemical Mechanical Polishing Slurry) je vysoko výkonný materiál používaný pri výrobe polovodičov a precíznom spracovaní materiálu. Jeho hlavnou funkciou je dosiahnuť jemnú rovinnosť a leštenie povrchu materiálu za synergického účinku chemickej korózie a mechanického brúsenia, aby sa splnili požiadavky na rovinnosť a kvalitu povrchu na nano úrovni. Tešíme sa na vašu ďalšiu konzultáciu.

Ako poprední čínski výrobcovia a dodávatelia SIC Waferovcov a dodávateľov vepany Vetek Semiconductor CVD SIC Pumping Wafer je špecializovaným nástrojom na výrobu polovodičov, ktorý sa používa hlavne na účely procesu testovania a testovania oblátkov kremíkových doštičiek. Vaše ďalšie otázky sú vítané.