Webové menu

Vyhľadávanie produktov

Jazyk

Vybrané produkty

O nás

O nás

VeTek Semiconductor Technology Co., Ltd.
VeTek semiconductor Technology Co., LTD., založená v roku 2016, je popredným poskytovateľom pokročilých náterových materiálov pre polovodičový priemysel. Náš zakladateľ, bývalý odborník z Ústavu materiálov Čínskej akadémie vied, založil spoločnosť so zameraním na vývoj špičkových riešení pre priemysel.

Medzi naše hlavné produkty patríCVD povlaky z karbidu kremíka (SiC)., povlaky z karbidu tantalu (TaC)., hromadný SiC, prášky SiC a materiály SiC s vysokou čistotou. Hlavnými produktmi sú grafitový susceptor potiahnutý SiC, predhrievacie krúžky, odvádzací krúžok potiahnutý TaC, časti polovice mesiaca atď., Čistota je pod 5 ppm, môže spĺňať požiadavky zákazníka.
Vidieť viac
VeTek je profesionál v oblasti povlaku karbidu kremíka, povlaku karbidu tantalu, výrobcu a dodávateľa špeciálneho grafitu v Číne. Môžete si byť istí, že si kúpite produkty z našej továrne a my vám ponúkneme kvalitný popredajný servis.

Správy

  • Čo je to PECVD Graphite Boat?
    2025-03-04
    Čo je to PECVD Graphite Boat?

    Hlavným materiálom PECVD Graphitovej lode je izotropný grafitový materiál s vysokou čistotou (čistota je zvyčajne ≥ 99,999%), ktorá má vynikajúcu elektrickú vodivosť, tepelnú vodivosť a hustotu. V porovnaní s bežnými grafitovými člnmi majú PECVD grafitové lode mnoho výhod fyzických a chemických vlastností a používajú sa hlavne v polovodičových a fotovoltaických odvetviach, najmä v procesoch PECVD a CVD.

  • Ako porézny grafit zvyšuje rast kryštálových kryštálov kremíka?
    2025-01-09
    Ako porézny grafit zvyšuje rast kryštálových kryštálov kremíka?

    Tento blog má „Ako pórovitý grafit vylepšuje rast kryštálových kryštálov kremíka?“ Ako téma a podrobne diskutuje o poréznych grafitských kľúčových cestách, úloha karbidu kremíka v polovodičovej technológii, jedinečné vlastnosti porézneho grafitu, ako pórovitý grafit optimalizuje proces PVT, inovácie v poréznych grafitských materiáloch a iných uhloch.

  • Inovácia technológie CVD za Nobelovou cenou
    2025-01-02
    Inovácia technológie CVD za Nobelovou cenou

    Tento blog pojednáva o konkrétnych aplikáciách umelej inteligencie v oblasti CVD z dvoch aspektov: význam a výzvy technológie depozície chemických pár (CVD) vo fyzike a CVD technológii a strojovom učení.

  • Čo je SIC-potiahnutý grafitový Suslec?
    2024-12-27
    Čo je SIC-potiahnutý grafitový Suslec?

    Tento blog má „Čo je SIC potiahnuté grafitským Susceptorom?“ Ako jej téma a diskutuje o ňom z perspektív epitaxnej vrstvy a jej vybavenia, dôležitosť SIC potiahnutého grafitu Siliptora v CVD vybaveniach, technológii povlaku SIC, konkurencie trhu a technologických inovácií Vetic Semiconductor.

  • Ako pripraviť povlak CVD TAC? - vetemicon
    2024-08-23
    Ako pripraviť povlak CVD TAC? - vetemicon

    Tento článok predstavuje charakteristiky produktu CVD TAC povlaky, proces prípravy CVD TAC povlaku pomocou metódy CVD a základnej metódy detekcie povrchovej morfológie pripraveného povlaku TAC CVD.

  • Čo je to povlak TAC TACABID TANTALUM? - vetemicon
    2024-08-22
    Čo je to povlak TAC TACABID TANTALUM? - vetemicon

    Tento článok predstavuje charakteristiky produktu TAC povlaky, špecifický proces prípravy produktov TAC pomocou technológie CVD, predstavuje najobľúbenejší TAC povlaky spoločnosti VeteKemicon a stručne analyzuje dôvody výberu VeteKemicon.

  • Čo je povlaky TAC? - Vetek polovodič
    2024-08-15
    Čo je povlaky TAC? - Vetek polovodič

    Tento článok predstavuje hlavne typy produktov, charakteristiky produktu a hlavné funkcie povlaku TAC v spracovaní polovodičov a vytvára komplexnú analýzu a interpretáciu výrobkov poťahovania TAC ako celku.

  • Čo je to keramický čln z karbidu kremíka (SiC)?
    2026-01-08
    Čo je to keramický čln z karbidu kremíka (SiC)?

    V polovodičových vysokoteplotných procesoch sa manipulácia, podpora a tepelné spracovanie doštičiek spolieha na špeciálny podporný komponent - doštičkový čln. Ako stúpajú procesné teploty a zvyšujú sa požiadavky na čistotu a kontrolu častíc, tradičné kremenné člny postupne odhaľujú problémy, ako je krátka životnosť, vysoká miera deformácie a slabá odolnosť proti korózii.

  • Aké sú výhody povlakových krúžkov TaC v polovodičových aplikáciách
    2026-01-07
    Aké sú výhody povlakových krúžkov TaC v polovodičových aplikáciách

    Povlakové krúžky TaC (karbid tantalu) sú neoddeliteľnou súčasťou výroby polovodičov, najmä pre zariadenia vystavené drsnému prostrediu. Tento blog skúma výhody používania poťahovacích krúžkov TaC, ich aplikácie v polovodičových procesoch a prečo sú riešenia poťahovania TaC od VeTek tou najlepšou voľbou pre profesionálov v tomto odvetví. Ponorením sa do ich výkonu, nákladovej efektívnosti a odolnosti tento článok zdôrazňuje úlohu, ktorú tieto pokročilé povlaky zohrávajú pri zvyšovaní kvality polovodičových zariadení.

  • Prečo je rast kryštálov SiC PVT stabilný v hromadnej výrobe?
    2025-12-29
    Prečo je rast kryštálov SiC PVT stabilný v hromadnej výrobe?

    Pre priemyselnú výrobu substrátov z karbidu kremíka nie je konečným cieľom úspech jedného cyklu rastu. Skutočnou výzvou je zabezpečiť, aby si kryštály pestované v rôznych šaržiach, nástrojoch a časových obdobiach zachovali vysokú úroveň konzistencie a opakovateľnosti kvality. V tomto kontexte úloha povlaku karbidu tantalu (TaC) presahuje základnú ochranu – stáva sa kľúčovým faktorom pri stabilizácii procesného okna a zabezpečení výťažnosti produktu.

  • Ako dosiahne povlak z karbidu tantalu (TaC) dlhodobú službu pri extrémnom tepelnom cyklovaní?
    2025-12-22
    Ako dosiahne povlak z karbidu tantalu (TaC) dlhodobú službu pri extrémnom tepelnom cyklovaní?

    Rast PVT karbidu kremíka (SiC) zahŕňa silné tepelné cykly (izbová teplota nad 2200 ℃). Enormné tepelné napätie vznikajúce medzi povlakom a grafitovým substrátom v dôsledku nesúladu koeficientov tepelnej rozťažnosti (CTE) je hlavnou výzvou pri určovaní životnosti povlaku a spoľahlivosti aplikácie.

  • Čo robí vysoko čistý kremenný kúpeľ nevyhnutným pre pokročilé polovodičové procesy
    2025-12-22
    Čo robí vysoko čistý kremenný kúpeľ nevyhnutným pre pokročilé polovodičové procesy

    Vo výrobe polovodičov, solárnych článkov a mikroelektroniky si presné mokré spracovanie, ako je čistenie plátkov, leptanie a príprava povrchu, vyžaduje materiály a zariadenia, ktoré zaisťujú ultra vysokú čistotu, tepelnú stabilitu a odolnosť proti korózii. Kremenný kúpeľ s vysokou čistotou poskytuje tieto atribúty konštrukcii syntetického taveného kremeňa, čo z neho robí základný kameň moderného výrobného prostredia.

X
Súbory cookie používame, aby sme vám poskytli lepší zážitok z prehliadania, analyzovali návštevnosť stránok a prispôsobili obsah. Používaním tejto stránky súhlasíte s naším používaním cookies. Zásady ochrany osobných údajov
Odmietnuť Prijať