Produkty

Pevný zaostrovací krúžok Veteksemi SiC výrazne zlepšuje rovnomernosť leptania a stabilitu procesu precíznym riadením elektrického poľa a prúdenia vzduchu na okraji plátku. Široko sa používa v procesoch presného leptania pre kremík, dielektrika a zložené polovodičové materiály a je kľúčovým komponentom na zabezpečenie výnosu hromadnej výroby a dlhodobej spoľahlivej prevádzky zariadení.

V kritických krokoch čistenia plátku, leptania a mokrého leptania je kremenný kúpeľ s vysokou čistotou viac než len nádoba; je to prvá línia obrany pre úspech procesu. Kontaminácia kovovými iónmi, praskanie tepelným šokom, chemické napadnutie a zvyšky častíc sú skryté príčiny kolísania výnosu. Veteksemi je hlboko zakorenený v polovodičovom kremeni. Každý kremenný kúpeľ, ktorý vyrábame, je navrhnutý tak, aby poskytoval nekompromisnú spoľahlivosť a čistotu pre vaše špičkové procesy.

Naše robotické rameno kremíka (SIC) (SIC) je určené pre vysoko výkonnú manipuláciu s oblátkami vo výrobe pokročilých polovodičov. Toto robotické rameno, ktoré je vyrobené z karbidu kremíka s vysokou čistotou Jeho výnimočná mechanická pevnosť a rozmerová stabilita umožňujú presnú manipuláciu s oblátkami a zároveň minimalizovať riziká kontaminácie, čo z nej robí ideálnu voľbu pre MOCVD, epitaxiu, implantáciu iónov a ďalšie aplikácie zaobchádzania s kritickými oblátkami. Vítame vaše otázky.

Veteksemicon sa špecializuje na poskytovanie prispôsobených výrobkov z Quartz Wafer Boat pre polovodičový priemysel. Naša produktová rada obsahuje polovodičové člny z kremenného skla, kremeňové difúzne lode a prispôsobené kremenné žíhajúce lode, ktoré sa bežne používajú v procesoch s vysokou presnosťou, ako je difúzia, oxidácia a CVD. Veteksemicon trvá na poskytovaní komplexných prispôsobených služieb výrobkov a technológií. Tešíme sa na vašu ďalšiu konzultáciu.

Vetsemicon SIC Wafer Boats sa široko používajú v kritických vysokoteplotných procesoch vo výrobe polovodičov a slúžia ako spoľahlivé nosiče pre procesy oxidácie, difúzie a žíhania pre integrované obvody založené na kremíku. Vynikajú tiež v polovodičovom sektore tretej generácie, ktoré sú dokonale vhodné pre náročné procesy, ako je epitaxiálny rast (EPI) a depozícia chemickej pary-organickej kovu (MOCVD) pre výkonové zariadenia SIC a GAN. Podporujú tiež vysokoteplotnú výrobu vysokoúčinných solárnych článkov vo fotovoltaickom priemysle. Tešíme sa na vašu ďalšiu konzultáciu.

Grafitová sprchová hlava potiahnutá CVD SIC z Veteksemicon je vysoko výkonná zložka špeciálne navrhnutá pre procesy depozície polovodičových chemikálií (CVD). Táto sprchová hlava dodáva vynikajúcu trvanlivosť, tepelnú stabilitu a odolnosť voči korozívnym procesným procesným plynom vyrobeným z vysoko čistiaceho grafitu a chránená chemickou depozíciou pary (CVD) kremíka (SIC). Tešíme sa na vašu ďalšiu konzultáciu.