Produkty

CVD TaC Coated Graphite Ring od Veteksemicon je navrhnutý tak, aby spĺňal extrémne požiadavky na spracovanie polovodičových doštičiek. Použitím technológie chemického nanášania pár (CVD) sa na vysoko čisté grafitové substráty nanáša hustý a rovnomerný povlak karbidu tantalu (TaC), čím sa dosahuje výnimočná tvrdosť, odolnosť proti opotrebeniu a chemická inertnosť. Pri výrobe polovodičov je grafitový krúžok potiahnutý CVD TaC široko používaný v MOCVD, leptacích, difúznych a epitaxiálnych rastových komorách, pričom slúži ako kľúčový konštrukčný alebo tesniaci komponent pre nosiče plátkov, susceptory a tieniace zostavy. Tešíme sa na vašu ďalšiu konzultáciu.

Pórovitý grafitový krúžok potiahnutý TaC vyrábaný spoločnosťou VETEK používa ľahký porézny grafitový substrát a je potiahnutý vysoko čistým povlakom z karbidu tantalu, ktorý sa vyznačuje vynikajúcou odolnosťou voči vysokým teplotám, korozívnym plynom a plazmovej erózii

Konzolové pádlo z karbidu kremíka od Veteksemicon je navrhnuté pre pokročilé spracovanie plátkov pri výrobe polovodičov. Vyrobené z vysoko čistého SiC, poskytuje vynikajúcu tepelnú stabilitu, vynikajúcu mechanickú pevnosť a vynikajúcu odolnosť voči vysokým teplotám a korozívnemu prostrediu. Tieto vlastnosti zaisťujú presnú manipuláciu s plátkami, predĺženú životnosť a spoľahlivý výkon v procesoch, ako je MOCVD, epitaxia a difúzia. Vitajte na konzultácii.

Keramické vákuové skľučovadlo Veteksemicon SiC pre doštičky je navrhnuté tak, aby poskytovalo výnimočnú presnosť a spoľahlivosť pri spracovaní polovodičových doštičiek. Vyrobený z vysoko čistého karbidu kremíka, zaisťuje vynikajúcu tepelnú vodivosť, chemickú odolnosť a vynikajúcu mechanickú pevnosť, vďaka čomu je ideálny pre náročné aplikácie, ako je leptanie, nanášanie a litografia. Jeho ultra plochý povrch zaručuje stabilnú podporu plátku, minimalizuje chyby a zlepšuje výťažnosť procesu. toto vákuové skľučovadlo je dôveryhodnou voľbou pre vysokovýkonnú manipuláciu s plátkami.

Pevný zaostrovací krúžok Veteksemi SiC výrazne zlepšuje rovnomernosť leptania a stabilitu procesu precíznym riadením elektrického poľa a prúdenia vzduchu na okraji plátku. Široko sa používa v procesoch presného leptania pre kremík, dielektrika a zložené polovodičové materiály a je kľúčovým komponentom na zabezpečenie výnosu hromadnej výroby a dlhodobej spoľahlivej prevádzky zariadení.

V kritických krokoch čistenia plátku, leptania a mokrého leptania je kremenný kúpeľ s vysokou čistotou viac než len nádoba; je to prvá línia obrany pre úspech procesu. Kontaminácia kovovými iónmi, praskanie tepelným šokom, chemické napadnutie a zvyšky častíc sú skryté príčiny kolísania výnosu. Veteksemi je hlboko zakorenený v polovodičovom kremeni. Každý kremenný kúpeľ, ktorý vyrábame, je navrhnutý tak, aby poskytoval nekompromisnú spoľahlivosť a čistotu pre vaše špičkové procesy.