Povlak z karbidu tantalu

VeTek semiconductor je popredný výrobca povlakových materiálov z karbidu tantalu pre polovodičový priemysel. Naše hlavné ponuky produktov zahŕňajú CVD povlakové diely z karbidu tantalu, spekané diely s povlakom TaC pre rast kryštálov SiC alebo proces epitaxie polovodičov. VeTek Semiconductor prešiel ISO9001 a má dobrú kontrolu kvality. VeTek Semiconductor je odhodlaný stať sa inovátorom v priemysle povlakov karbidu tantalu prostredníctvom prebiehajúceho výskumu a vývoja iteračných technológií.

Hlavnými produktmi súVodiaci krúžok potiahnutý TaC, Trojlístkový vodiaci krúžok potiahnutý CVD TaC, Halfmoon potiahnutý karbidom tantalu TaC, CVD TaC povlak planetárneho epitaxného susceptora SiC, Povlakový krúžok z karbidu tantalu, Porézny grafit potiahnutý karbidom tantalu, Rotačný susceptor povlaku TaC, Prsteň z karbidu tantalu, Rotačná doska povlaku TaC, Susceptor plátku potiahnutý TaC, Deflektorový krúžok potiahnutý TaC, Kryt CVD TaC, Skľučovadlo potiahnuté TaCatď., čistota je nižšia ako 5 ppm, môže spĺňať požiadavky zákazníka.

TaC povlakový grafit je vytvorený potiahnutím povrchu vysoko čistého grafitového substrátu jemnou vrstvou karbidu tantalu patentovaným procesom chemického nanášania z plynnej fázy (CVD). Výhoda je znázornená na obrázku nižšie:

Excellent properties of TaC coating graphite

Povlak z karbidu tantalu (TaC) si získal pozornosť vďaka svojmu vysokému bodu topenia až 3880°C, vynikajúcej mechanickej pevnosti, tvrdosti a odolnosti voči tepelným šokom, čo z neho robí atraktívnu alternatívu k procesom epitaxe zložených polovodičov s vyššími teplotnými požiadavkami, ako je Aixtron MOCVD systém a LPE SiC epitaxný proces. Má tiež široké uplatnenie v PVT metóde v procese rastu SiC kryštálov.

Kľúčové vlastnosti:

●Teplotná stabilita

●Ultra vysoká čistota

●Odolnosť voči H2, NH3, SiH4, Si

●Odolnosť voči tepelným zásobám

●Silná priľnavosť ku grafitu

●Konformné pokrytie povlakom

● Veľkosť do priemeru 750 mm (jediný výrobca v Číne dosahuje túto veľkosť)

Aplikácie:

●Nosič oblátok

● Indukčný vykurovací susceptor

● Odporové vykurovacie teleso

●Satelitný disk

●Sprchová hlavica

●Vodiaci krúžok

●LED prijímač Epi

●Vstrekovacia tryska

●Maskovací prsteň

● Tepelný štít

Povlak karbidu tantalu (TaC) na mikroskopickom priereze:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

Parameter povlaku VeTek Semiconductor Tantal Carbide Coating:

Fyzikálne vlastnosti povlaku TaC
Hustota	14,3 (g/cm³)
Špecifická emisivita	0.3
Koeficient tepelnej rozťažnosti	6.3 10^-6/K
Tvrdosť (HK)	2000 HK
Odpor	1×10^-5Ohm*cm
Tepelná stabilita	<2500 ℃
Veľkosť grafitu sa mení	-10~-20um
Hrúbka povlaku	≥20um typická hodnota (35um±10um)

Údaje o EDX povlaku TaC：

EDX data of TaC coating

Údaje o štruktúre kryštálov povlaku TaC:

Prvok	Atómové percento
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	Priemerná
C K	52.10	57.41	52.37	53.96
M	47.90	42.59	47.63	46.04

TaC Coating Chuck Planetárny disk s povlakom TaC
TaC potiahnutá doska Rotačná doska povlaku TaC Prijímač povlaku TaC CVD TaC povlak Kryt CVD TaC povlakový krúžok TaC poťahová doska

View as

Trubica potiahnutá karbidom tantalu pre rast kryštálov

Trubica potiahnutá karbidom tantalu pre rast kryštálov sa používa hlavne v procese rastu kryštálov SIC. Vetek Semiconductor dodáva trubicu potiahnutú karbidom potiahnutej už mnoho rokov a už mnoho rokov pracuje v oblasti povlaku TAC. Naše výrobky majú vysokú odolnosť voči čistote a vysokej teplote. Tešíme sa, že sa staneme vaším dlhodobým partnerom v Číne. Neváhajte a opýtajte sa nás.

Vidieť viac >> Odoslať dopyt >>

Krúžok potiahnutý TaC pre SiC epitaxný reaktor

Vetek Semiconductor je popredným výrobcom a technologickým inovátorom kruhu potiahnutého TAC pre SIC epitaxiálny reaktor v Číne so zameraním na poskytovanie vysokovýkonných riešení pre SIC epitaxiálne reaktory. Máme dlhoročné skúsenosti s technológiou povlaku TAC. Kruh potiahnutý TAC má charakteristiky vysokej čistoty, vysokej stability, vynikajúcej odolnosti proti korózii atď., A môže poskytnúť dlhodobý stabilný výkon v drsnom pracovnom prostredí epitaxiálnych reaktorov. Tešíme sa na nadviazanie dlhodobého strategického partnerstva s vami.

Vidieť viac >> Odoslať dopyt >>

Polmesiacový diel potiahnutý karbidom tantalu pre LPE

VeTek Semiconductor je popredným dodávateľom dielov Halfmoon potiahnutých karbidom tantalu pre LPE v Číne, pričom sa už mnoho rokov zameriava na technológiu poťahovania TaC. Naša súčiastka Halfmoon potiahnutá karbidom tantalu pre LPE je navrhnutá pre proces epitaxie v kvapalnej fáze a vydrží vysoké teploty nad 2000 stupňov Celzia. Vďaka vynikajúcemu výkonu materiálu a inovácii procesov je životnosť našich produktov na špičkovej úrovni v tomto odvetví. VeTek Semiconductor sa teší, že bude vaším dlhodobým partnerom v Číne.

Vidieť viac >> Odoslať dopyt >>

Vodiaci krúžok potiahnutý TAC

Sprievodný krúžok potiahnutý TAC je vyrobený z vysoko kvalitného grafitu a povlaku TAC. Pri príprave kryštálov SIC pomocou Metódy PVT sa vodiaci krúžok TAC potiahnutý TAC Semiconductor Polovconductor používa hlavne na usmernenie a reguláciu prúdenia vzduchu, optimalizáciu procesu rastu jednej kryštálov a na zlepšenie výťažku jednovrokov. Vďaka vynikajúcej technológii povlaku TAC majú naše výrobky vynikajúcu vysokú teplotnú odolnosť, odolnosť proti korózii a dobré mechanické vlastnosti.

Vidieť viac >> Odoslať dopyt >>

Tantalum karbid potiahnutý planétovým rotáciou

Vetek Semiconductor je popredným výrobcom a dodávateľom disk rotácie planéty s tantalom v Číne so zameraním na technológiu povlaku TAC po mnoho rokov. Naše výrobky majú vysokú čistotu a vynikajúcu vysokú teplotnú odolnosť, ktorú výrobcovia polovodičov všeobecne rozpoznávajú. Disk planetárneho rotácie potiahnutého karbidom vettek sa stal chrbtovou kosťou priemyslu epitaxie doštičiek. Tešíme sa na nadviazanie dlhodobého partnerstva s vami s cieľom spoločne podporovať technologický pokrok a optimalizáciu výroby.

Vidieť viac >> Odoslať dopyt >>

TAC potiahnutý nosič grafitov

Vetek Semiconductor starostlivo navrhol pre zákazníkov dopravcu grafitmi TAC potiahnutý TAC. Skladá sa z vysoko čistiaceho grafitu a povlaku TAC, ktorý je vhodný pre rôzne spracovanie epitaxných doštičiek. Už mnoho rokov sme sa špecializovali na náter SIC a TAC. V porovnaní s povlakom SIC má náš nosič s grafitmi potiahnutými TAC vyššiu teplotu a odolnosť proti opotrebeniu. Tešíme sa, že sa staneme vaším dlhodobým partnerom v Číne.

Vidieť viac >> Odoslať dopyt >>

Ako profesionál Povlak z karbidu tantalu výrobca a dodávateľ v Číne máme vlastnú továreň. Či už potrebujete prispôsobené služby, ktoré vyhovujú konkrétnym potrebám vášho regiónu alebo chcete kúpiť pokročilé a odolné Povlak z karbidu tantalu v Číne, môžete nám nechať správu.

QR kód

O nás

Produkty

Kontaktuj nás

Telefón
+86-18069220752
Fax
+86-579-87223657
E-mail
anny@veteksemi.com
Adresa
Wangda Road, ulica Ziyang, Wuyi County, Jinhua City, provincia Zhejiang, Čína

Webové menu

Vyhľadávanie produktov

Jazyk

Ukončiť ponuku

Povlak z karbidu tantalu

Kľúčové vlastnosti:

Aplikácie:

Povlak karbidu tantalu (TaC) na mikroskopickom priereze:

Parameter povlaku VeTek Semiconductor Tantal Carbide Coating:

Údaje o EDX povlaku TaC：

Údaje o štruktúre kryštálov povlaku TaC:

Trubica potiahnutá karbidom tantalu pre rast kryštálov

Krúžok potiahnutý TaC pre SiC epitaxný reaktor

Polmesiacový diel potiahnutý karbidom tantalu pre LPE

Vodiaci krúžok potiahnutý TAC

Tantalum karbid potiahnutý planétovým rotáciou

TAC potiahnutý nosič grafitov

Odoslať dopyt

QR kód

O nás

Produkty

Kontaktuj nás

Telefón

Fax

E-mail

Adresa