Sprchová hlava

Vetek Semiconductor poskytuje pokročilú sprchovú hlavu SIC do polovodičového priemyslu. Materiály karbidu kremíka majú jedinečnú kombináciu vynikajúcich tepelných, elektrických a chemických vlastností, vďaka čomu sú ideálne pre aplikácie v polovodičovom priemysle, kde sú potrebné vysokovýkonné materiály. Vetek Semiconductor má dlhé akumulované skúsenosti s technológiou Solid SIC CVD. Revolučná technológia Vetic Semiconductor umožňuje výrobu sprchovej hlavy SIC, ultra vysokého materiálu kremíkového karbidu, ktorý bol vytvorený procesom ukladania chemickej pary.

Sprchová hlava SIC je rozhodujúcou súčasťou výroby polovodičov, špeciálne navrhnutá pre systémy MOCVD, kremíkovú epitaxiu aSicprocesy epitaxie. Vyrobené z robustnýchPevný kremíkový karbid (sic), táto zložka môže odolať extrémnym podmienkam spracovania plazmy a aplikácií s vysokou teplotou.

Kremíkový karbid (sic)je známy svojou vysokou tepelnou vodivosťou, chemickou odolnosťou proti korózii a výnimočnou mechanickou pevnosťou, vďaka čomu je ideálnym materiálom pre objemové sic komponenty, ako je sprchová hlava SIC. Hlava plynu zaisťuje rovnomerné rozdelenie procesných plynov na povrchu oblátky, čo je nevyhnutné na výrobu vysokokvalitných epitaxiálnych vrstiev. Zaostrené krúžky a okrajové krúžky, často vyrobené z CVD-SIC, udržiavajú rovnomerné rozdelenie plazmy a chránia komoru pred kontamináciou, čím sa zvyšuje účinnosť a výťažok epitaxného rastu.

Vďaka presnému riadeniu prietoku plynu a vynikajúcimi vlastnosťami materiálu je sprchová hlava SIC kľúčovou súčasťou moderného spracovania polovodičov, ktorá podporuje pokročilé aplikácie v kremíkovej epitaxii a epitaxi SIC.

Vetic Semiconductor ponúka polovodičovú sprchovú hlavu kremíkového karbidu s nízkym odporom. Máme schopnosť vlastného inžiniera a napájaťpokročilé keramické materiályVyužívanie rôznych jedinečných schopností.