Polovodičová keramická dýza

Polovodičová keramická tryska hrá dôležitú úlohu vProces HDP-CVD, používané na presné riadenie prietoku plynu a zabezpečenievysoko kvalitné depozície filmu. Keramická dýzová sprej je presne skonštruovaná na zabezpečenie konzistentných a regulovateľných prietokov plynu, čo minimalizuje možné turbulencie, keď plyn vstupuje do reakčnej komory.

Technické špecifikácie:

1. Materiálne zloženie:

Vetek polovodičová keramická piesková tryska sa zvyčajne vyrába z polovodičovej keramiky, ako je oxid hlinitý (AL2O3),karbid kremíka (SIC)alebo oxid zirkónia (Zro2), tieto materiály majú vynikajúce vlastnosti:

    • Vysoká tepelná stabilita (vydrží teploty nad 1000 ℃)

    • Odolnosť proti korózii pomocou reaktívnych plynov používaných vCVD procesy(ako je Silane, amoniak)

    • Odolnosť proti kontinuálnej expozícii v plazme.

2. Konštrukčný návrh:

    • Veľkosť otvoru: Organizácia polovodičovej keramickej dýzy je vedecky navrhnutá tak, aby umožnila presnú kontrolu prietoku plynu, čo zase ovplyvňuje uniformitu a hrúbku filmu.

    • Uhly a geometrie: Presne navrhnuté na zabezpečenie rovnomerného rozdelenia plynu cez substrát, čím sa minimalizujú defekty v uloženej vrstve.

V polovodičovom priemysle zohrávajú polovodičové keramické tryskacie trysky kľúčovú úlohu predovšetkým v procese HDP-CVD. Používajú sa aj na nanášanie tenkých vrstiev na výrobu mikroelektroniky, čím sa zabezpečujú vysokokvalitné povrchové nátery, ktoré sú rovnomerné a bez nečistôt.

Predajne polovodičových keramických dýz VeTeK: