Produkty

Ako profesionálny výrobca, inovátor a vodca produktov rotácie TAC Coating Rotácie v Číne. VETEK Semiconductor TAC Coating Rotation Spiceptor je zvyčajne inštalovaný v chemickom depozícii pary (CVD) a zariadeniach Epitaxy (MBE) molekulárneho lúča (MBE) na podporu a otáčanie doštičiek, aby sa zabezpečila rovnomerná depozícia materiálu a účinná reakcia. Je kľúčovým komponentom pri spracovaní polovodičov. Vitajte svoju ďalšiu konzultáciu.

Vetek Semiconductor je profesionálny výrobca a líder výrobkov Crucible Tac Crug Cruel v Číne. CVD TAC Poter Crucible je založený na povlaku tantalum uhlíka (TAC). Tantalum uhlíkový povlak je rovnomerne zakrytý na povrchu téglika procesom depozície chemickej pary (CVD), aby sa zvýšil jeho tepelný odpor a odolnosť proti korózii. Je to materiál, ktorý sa špeciálne používa v extrémnych prostrediach s vysokou teplotou. Vitajte svoju ďalšiu konzultáciu.

Vetek Semiconductor je profesionálny výrobca a vodca výrobkov držiteľov oblátok SIC v Číne. Držiak na oblátky potiahnutý SIC je držiteľom oblátky pre proces epitaxie pri spracovaní polovodičov. Je to nenahraditeľné zariadenie, ktoré stabilizuje oblátku a zaisťuje rovnomerný rast epitaxnej vrstvy. Vitajte svoju ďalšiu konzultáciu.

Ako profesionálny výrobca produktov na oblátky TAC TAC TAC a výrobca výrobkov v Číne v Číne je spoločnosť Vetek Semiconductor CVD TAC Coating Wafer Carrier pre prepravný nástroj špeciálne určený pre vysoké teplotné a korozívne prostredie v výrobe polovodičov. a CVD TAC Coating Wafer Nosič má vysokú mechanickú pevnosť, vynikajúcu odolnosť proti korózii a tepelnú stabilitu, ktorá poskytuje potrebnú záruku na výrobu vysokokvalitných polovodičových zariadení. Vaše ďalšie otázky sú vítané.

Vetek Semiconductor je profesionálny výrobca držiteľa oblátok EPI a továreň v Číne. Držiak na oblátky EPI je držiteľom oblátky pre proces epitaxie pri spracovaní polovodičov. Je to kľúčový nástroj na stabilizáciu oblátky a zabezpečenie rovnomerného rastu epitaxnej vrstvy. Všeobecne sa používa v zariadeniach epitaxie, ako sú MOCVD a LPCVD. Je to nenahraditeľné zariadenie v procese epitaxie. Vitajte svoju ďalšiu konzultáciu.

Aixtron satelitný oblátkový nosič spoločnosti Vetek Semiconductor je nosič oblátky používaného v zariadeniach Aixtron, ktorý sa používa hlavne v procesoch MOCVD a je obzvlášť vhodný pre vysokoteplotné a vysoko presné procesy spracovania polovodičov. Nosič môže poskytnúť stabilnú podporu oblátok a rovnomerné ukladanie filmu počas epitaxiálneho rastu MOCVD, čo je nevyhnutné pre proces ukladania vrstvy. Vitajte svoju ďalšiu konzultáciu.