Povlak z karbidu kremíka

Ako pokročilý výrobca výrobkov a závod v Číne v Číne. Tesnenie časti Vetek Semiconducto SIC je vysoko výkonná tesniaca komponent, ktorý sa bežne používa pri spracovaní polovodičov a iných extrémnych procesoch vysokej teploty a vysokotlaku. Vitajte svoju ďalšiu konzultáciu.

Ako popredný výrobca a dodávateľ výrobkov s kremíkovou karbidom v Číne v Číne zohráva v procese epitaxného rastu v procese epitaxiálneho rastu nekvalifikovateľnú rolu kremíkového karbidu kremíka, ktorá je v procese epitaxného rastu s vynikajúcou odolnosťou proti vysokej teplote, chemickej koróznej odolnosti a odolnosti proti tepelnému šoku. Vitajte svoju ďalšiu konzultáciu.

Sprchová hlava kremíka má vynikajúcu toleranciu s vysokou teplotou, chemickú stabilitu, tepelnú vodivosť a dobrý výkon distribúcie plynu, ktorá môže dosiahnuť rovnomerné rozdelenie plynu a zlepšiť kvalitu filmu. Preto sa zvyčajne používa vo vysokoteplotných procesoch, ako je chemické ukladanie pary (CVD) alebo fyzikálne depozície pár (PVD). Vitajte svoju ďalšiu konzultáciu s nami, Vetek Semiconductor.

Ako profesionálny výrobca výrobkov z tesnenia kremíkového karbidu v Číne sa v Číne vezový kremíkový kremíkový kruhový kruh kremíka v polovodiče široko používa v zariadení na spracovanie polovodičov kvôli jeho vynikajúcemu tepelnému odporu, odolnosti proti korózii, mechanickej pevnosti a tepelnej vodivosti. Je obzvlášť vhodný pre procesy zahŕňajúce vysoké teplotné a reaktívne plyny, ako sú CVD, PVD a leptanie plazmy, a je kľúčovým výberom materiálu v procese výroby polovodičov. Vaše ďalšie otázky sú vítané.

Vetek Semiconductor je profesionálny výrobca a vodca výrobkov držiteľov oblátok SIC v Číne. Držiak na oblátky potiahnutý SIC je držiteľom oblátky pre proces epitaxie pri spracovaní polovodičov. Je to nenahraditeľné zariadenie, ktoré stabilizuje oblátku a zaisťuje rovnomerný rast epitaxnej vrstvy. Vitajte svoju ďalšiu konzultáciu.

Vetek Semiconductor je profesionálny výrobca držiteľa oblátok EPI a továreň v Číne. Držiak na oblátky EPI je držiteľom oblátky pre proces epitaxie pri spracovaní polovodičov. Je to kľúčový nástroj na stabilizáciu oblátky a zabezpečenie rovnomerného rastu epitaxnej vrstvy. Všeobecne sa používa v zariadeniach epitaxie, ako sú MOCVD a LPCVD. Je to nenahraditeľné zariadenie v procese epitaxie. Vitajte svoju ďalšiu konzultáciu.