Distribučná doska s kremenným plynom

Distribučné dosky z kremenného plynu, známe tiež ako kremenné sprchové hlavy, sú kritickými komponentmi pri výrobe polovodičov. Tieto platne využívajúce výnimočnú čistotu, vysokú teplotu odporu a odolnosť proti korózii v prípade kremeňa, zaisťujú rovnomerný a stabilný tok procesných plynov na povrch doštičky. Toto presné dodanie je nevyhnutné na udržanie kvality a rovnomernosti uložených filmov alebo leptaných prvkov.

Kľúčové vlastnosti s vysokou čistotou fúzovaného kremeňa

● Materiál: 99,99%vysokokvalitný fúzovaný kremeň

● Odolnosť voči vysokej teplote: Vydrží teploty nad 1000 ℃

● Odolnosť proti korózii: Vynikajúca trvanlivosť proti procesným plynom a plazmovým prostredím

● Presný prietok plynu: Rovnomerné rozdelenie mikropostavov pre optimálnu rovnomernosť dodávky a ukladania plynu

● Prispôsobiteľný dizajn: Veľkosť, vzor otvorov a montážne prvky môžu byť prispôsobené pre špecifické modely zariadení

Základné úlohy vo výrobe polovodičov

1. Fyzikálne ukladanie pary (PVD) a chemické ukladanie pary (CVD)

Úloha: V procesoch PVD a CVD sa distribučná doska plynu presne riadi reaktívne plyny (napr. Silane, amoniak, kyslík) alebo prekurzory na oblátku, aby vytvorila požadovaný tenký film.

Konkrétne použitie:

● Ovládanie jednotnosti: Presne skonštruované mikroúlky dosky zabezpečujú, aby prietok a koncentrácia plynu boli rovnomerné na celom povrchu oblátky. To je nevyhnutné na ukladanie filmov s konzistentnou hrúbkou a výkonom.

● Prevencia kontaminácie: Vysoká čistota kremeňa bráni v reakcii na dosku s procesnými plynmi alebo uvoľňovaním nečistôt. Tým sa zachováva čistota filmu a zabraňuje defektom na povrchu oblátky.

2. Plazmovo zvýšený chemický depozícia pary (PECVD)

Úloha: V PECVD sprchovata kremeňa poskytuje nielen reaktívne plyny, ale tiež funguje ako elektróda na generovanie plazmy.

Konkrétne použitie:

● Plazmové zapaľovanie: Sprchovačka je zvyčajne pripojená k zdroju výkonu rádiofrekvencie (RF), aby sa vytvorila plazma. Vysoko energetické častice v plazme podporujú rozklad plynných reaktantov, čo umožňuje ukladanie filmu pri nižších teplotách.

● Tepelná stabilita: Kremeň vykazuje vynikajúcu tepelnú stabilitu, čo jej umožňuje vydržať plazmové prostredie s vysokým teplotou. Pomáha to udržiavať rovnomernú teplotu v procesnej komore, čím sa ďalej zabezpečuje kvalitu a konzistentnosť filmu.

3. Suché leptanie

Úloha: V suchom leptaní predstavuje distribučná doska plynu reaktívne leptacie plyny (napr. Fluorokry, chlór) do leptacej komory.

Konkrétne použitie:

● Vylepšovacia rovnomernosť: Doska zaisťuje rovnomerný prietok a koncentráciu leptacích plynov, čo zaručuje konzistentnú hĺbku a profil leptania cez celú oblátku. To je rozhodujúce pre dosiahnutie presných vzorov potrebných pre pokročilé polovodičové zariadenia.

● Odolnosť proti korózii: Silné korozívne vlastnosti plynov z leptaní si vyžadujú odolný materiál. Vysoký odpor s koróziou Quartz rozširuje životnosť sprchy a znižuje riziko prerušenia procesu.

4. Čistenie oblátok

Úloha: V konkrétnych procesoch čistenia oblátok sa na dodávku čistiacich plynov (napr. Ozón, amoniak) k povrchu oblátky na odstránenie zvyškov alebo kontaminantov používajú kreštiace sa doska na čistenie plynov (napr. Ozón, amoniak).

Konkrétne použitie:

● Konzistentné čistenie: Doska zaisťuje, že čistenie plynov dosiahne každú časť oblátky, čo umožňuje dôkladný a rovnomerný proces čistenia.

● Chemická kompatibilita: Kompatibilita spoločnosti Quartz so širokou škálou čistiacich chemikálií zabraňuje reakciám a zachováva čistotu a účinnosť procesu čistenia.