Kremenná pec pre difúznu pec

1. Kľúčové vlastnosti a výhody

• Ultravysoko čistý dehydroxylovaný tavený kremeň (SiO₂ ≥ 99,999 %) s kovovými nečistotami kontrolovanými na úrovni ppb a extrémne nízkym obsahom hydroxylových skupín

• Dlhodobá prevádzková teplota do 1100 °C; short-term peak resistance to 1200 °C

• Vynikajúca odolnosť proti tepelným šokom po úplnom žíhaní na uvoľnenie napätia – odolná voči praskaniu pri rýchlych zmenách teploty

• Vynikajúca chemická inertnosť voči oxidačným, redukčným a procesným plynom obsahujúcim halogény; vhodné pre plazmové a korozívne prostredie

• Veľmi nízke vákuové odplyňovanie; hladká vnútorná stena minimalizuje hromadenie vedľajších produktov a podporuje opakovateľnosť procesu

• Jednodielne tvarovanie s rovnomernou hrúbkou steny, vysokou koaxiálnosťou a presne opracovanými koncami pre spoľahlivé utesnenie

• Prispôsobiteľné konštrukcie: rovné rúry, redukčné rúry, prírubové rúry, predĺžené dĺžky a špeciálne konfigurácie koncov pre vertikálne alebo horizontálne pece

2. Typické aplikácie

Rúry kremennej pece VeTek sa široko používajú ako jadrová reakčná komora v:

• Tepelné oxidačné pece (suchá/mokrá oxidácia)

• Difúzne pece na zavádzanie dopantu (B, P, As, atď.)

• Systémy LPCVD na nanášanie tenkých vrstiev

• Vákuové žíhanie a iné vysokoteplotné procesy tepelného spracovania

• Kompatibilné so 4-palcovými, 6-palcovými, 8-palcovými a 12-palcovými platničkami (Si, SiC, GaN, zafírové substráty)

Podporujú logické, pamäťové, napájacie zariadenia, MCU, LED, MEMS a výrobné linky polovodičov so širokým pásmovým odstupom, ktoré vyžadujú stabilnú rovnomernosť teploty, riadenie prietoku plynu a ultračisté procesné prostredie.

3. Kľúčové technické parametre

• Materiál: dehydroxylovaný tavený kremeň polovodičovej kvality (SiO₂ ≥ 99,999 %), nízky hydroxyl, malé množstvo kovových nečistôt

• Kompatibilita plátkov: 4 / 6 / 8 / 12 palcov

• Dlhodobá pracovná teplota: −20 °C až 1100 °C; short-term peak up to 1200 °C

• Proces: Tepelné tvarovanie z jedného kusa, homogenizácia stien, konečná úprava, žíhanie na uvoľnenie napätia, test netesnosti héliom, ultračisté čistenie

• Dostupné konštrukcie: Priama trubica, redukčná trubica, prírubová trubica, predĺžená trubica / trubica vlastnej dĺžky, špeciálne konfigurácie

• Prispôsobenie: Vnútorný/vonkajší priemer, dĺžka, hrúbka steny, špecifikácie príruby a špeciálne geometrie podľa zákazníckych výkresov

4. Prečo si vybrať kremenné pecné rúry VeTek?

Ako profesionálny výrobca polovodičových kremenných komponentov ponúka VeTek Semiconductor:

• Vysoko čisté kremenné pecné rúry navrhnuté pre zariadenia na oxidáciu, difúziu, LPCVD a žíhanie

• Prísna kontrola čistoty, rozmerová presnosť a čistota vhodná pre výrobu v čistých priestoroch triedy 10 / triedy 100

• Úplné prispôsobenie a OEM kompatibilný dizajn pre vertikálne a horizontálne rúrkové pece

• Doplnkové produkty z polovodičového kremeňa vrátane doštičiek, téglikov, vložiek a iných procesných komponentov

Naše kremenné pecné rúry pomáhajú udržiavať stabilné tepelné podmienky a podmienky prúdenia plynu, minimalizujú kontamináciu časticami a kovmi a predlžujú životnosť pri nepretržitom vysokoteplotnom cyklovaní, čo podporuje vyšší výnos a nižšie náklady na vlastníctvo pri tepelnom spracovaní polovodičov.