Produkty

Grafitový lesk na grafický epion Vetemicon Single Wafer je navrhnutý pre vysokoúčinný karbid kremíka (SIC), nitrid gallium (GAN) a ďalší polovodičový proces tretej generácie a je hlavnou súčasťou ložiskovej zložky vysoko presnej epitaxiálnej výroby.

Veteksemicon je popredným výrobcom vákuového skľučenia v Číne, náš keramický vákuový Chuck slúži ako vysoko koncové vákuové adsorpčné zariadenie zamerané na presné adsorbovanie a imobilizujúce doštičky a ingoty. Vitajte svoj dopyt.

Graphit papier s vysokou čistotou Vetek Semiconductor, prémiový produkt určený na splnenie prísnych štandardov čistoty a výkonnosti. S výnimočnou úrovňou čistoty až do 99,9%stojí náš grafitový papier ako dôveryhodná možnosť pre rôzne aplikácie, ako sú systémy batérií, palivové články, riešenia tepelného hospodárenia, tepelné polia polovodičov a ďalej. Tento grafitový papier, ktorý je vytvorený prostredníctvom proprietárneho výrobného procesu, zaručuje rovnomernosť a konzistentnosť, dodáva bezkonkurenčnú elektrickú vodivosť a tepelnú stabilitu. Dôverujte grafickým papierom Vetek Semiconductor pre spoľahlivosť a dokonalosť vo vašich špecializovaných projektoch.

Vetek Semiconductor ponúka vysoko čistý grafitový prášok, ktorý je vysoko kvalitným produktom s čistotou až 5 ppm a spĺňa najvyššie priemyselné štandardy. Prispôsobiteľná forma častíc, používaná hlavne pre práškový karbid kremíka a syntézu diamantov, vhodná pre polovodičový, elektronický a high-tech priemysel. Vitajte a spýtajte sa nás!

EDM grafitová elektróda má charakteristiky strednej hustoty, hladkého povrchu a nízkych nákladov a je vhodná pre chemický priemysel, tavenie kovov atď. VeTek Semiconductor má silnú výrobnú kapacitu a bohaté skúsenosti s exportom produktov EDM grafitových elektród. Môžete sa kedykoľvek opýtať.

Iónový lúč sa používa hlavne na leptanie iónov, povlaky iónov a injekciu plazmy. Úlohou mriežky zdrojov naprašovania iónového lúča je rozobrať ióny a urýchliť ich na požadovanú energiu. VETEK Semiconductor poskytuje mriežku s mriežkou iónového iónového iónového iónového iónového lúča pre optické leštenie iónových lúčov čistoty, modifikáciu oblátkov v polovodičoch atď.