ICP/PSS proces leptania

VeTek Semiconductor ICPPSS (Inductively Coupled Plasma Photoresist Stripping) Proces leptania Wafer Carrier je špeciálne navrhnutý tak, aby spĺňal náročné požiadavky procesov leptania v polovodičovom priemysle. Vďaka svojim pokročilým funkciám zaisťuje optimálny výkon, efektivitu a spoľahlivosť počas celého procesu leptania.

Výhoda VeTek Semiconductor ICP/PSS susveptorov procesu leptania:

Vylepšená chemická kompatibilita: Nosič plátku je vyrobený z materiálov, ktoré vykazujú vynikajúcu chemickú kompatibilitu s chemickými postupmi leptania. To zaisťuje kompatibilitu so širokou škálou leptadiel, odstraňovačov odolnosti a čistiacich roztokov, čím sa minimalizuje riziko chemických reakcií alebo kontaminácie.

Odolnosť voči vysokej teplote: Nosič plátku je navrhnutý tak, aby odolal vysokým teplotám, ktoré sa vyskytujú počas procesu leptania. Zachováva si svoju štrukturálnu integritu a mechanickú pevnosť, čím zabraňuje deformácii alebo poškodeniu aj pri extrémnych tepelných podmienkach.

Vynikajúca rovnomernosť leptania: Nosič sa vyznačuje precízne navrhnutým dizajnom, ktorý podporuje rovnomernú distribúciu leptadiel a plynov po povrchu plátku. Výsledkom sú konzistentné rýchlosti leptania a vysokokvalitné, jednotné vzory, ktoré sú nevyhnutné na dosiahnutie presných a spoľahlivých výsledkov leptania.

Vynikajúca stabilita plátku: Nosič obsahuje bezpečný mechanizmus držania plátku, ktorý zaisťuje stabilné umiestnenie a zabraňuje pohybu plátku alebo skĺznutiu počas procesu leptania. To zaručuje presné a opakovateľné vzory leptania, minimalizujúce defekty a straty výťažku.

Kompatibilita s čistými priestormi: Nosič plátkov je navrhnutý tak, aby spĺňal prísne normy pre čisté priestory. Vyznačuje sa nízkou tvorbou častíc a vynikajúcou čistotou, ktorá zabraňuje akejkoľvek kontaminácii časticami, ktorá by mohla ohroziť kvalitu a výťažnosť procesu leptania. Nečistota je pod 5 ppm.

Robustná a odolná konštrukcia: Nosič je vyrobený s použitím vysoko kvalitných materiálov známych svojou odolnosťou a dlhou životnosťou. Môže vydržať opakované použitie a prísne čistiace procesy bez toho, aby to ohrozilo jeho výkon alebo štrukturálnu integritu.

Prispôsobiteľný dizajn: Ponúkame prispôsobiteľné možnosti, aby sme splnili špecifické požiadavky zákazníkov. Nosič je možné prispôsobiť tak, aby vyhovoval rôznym veľkostiam plátku, hrúbke a špecifikáciám procesu, čím sa zabezpečí kompatibilita s rôznymi zariadeniami a procesmi na leptanie.

Vychutnajte si spoľahlivosť a výkon nášho ICP/PSS leptacieho nosiča Wafer Carrier, ktorý je navrhnutý tak, aby optimalizoval proces leptania v polovodičovom priemysle. Jeho zvýšená chemická kompatibilita, odolnosť voči vysokej teplote, vynikajúca rovnomernosť leptania, vynikajúca stabilita plátku, kompatibilita s čistými priestormi, robustná konštrukcia a prispôsobiteľný dizajn z neho robia ideálnu voľbu pre vaše leptacie aplikácie.

PSS leptacia doska ICP leptacia doska Susceptor na leptanie ICP