Surovina CVD SIC s vysokou čistotou

CenonontorJednokryštálová surovina SIC- Surovina CVD SIC s vysokou čistotou. Tento produkt vyplňuje domácu medzeru a je na celom svete na poprednej úrovni a bude v súťaži v dlhodobom vedúcich pozíciách. Tradičné suroviny karbidu kremíka sa vyrábajú reakciou vysoko čistoty kremíka agrafit, ktoré majú vysoké náklady, nízka čistota a malá veľkosť. 

Technológia fluidnej postele vek-semikončného postele Semiconductor používa metyltrichlórozilán na vytváranie surovín karbidu kremíka prostredníctvom ukladania chemickej pary a hlavným vedľajším produktom je kyselina chlorovodíková. Kyselina chlorovodíková môže tvoriť soli neutralizáciou alkali a nespôsobí žiadne znečistenie životného prostredia. Zároveň je metyltrichlórozilánom široko používaným priemyselným plynom s nízkymi nákladmi a širokými zdrojmi, najmä Čína je hlavným producentom metyltrichlórsilanu. Preto, CVD surovina SIC SIC SIC SEMEKTOR VETEK SEMICONDUCTORA má medzinárodnú vedúcu konkurencieschopnosť, pokiaľ ide o náklady a kvalitu. Čistota suroviny CVD SIC s vysokou čistotou je vyššia ako99,9995%.

Výhody vysokej čistoty CVD SIC suroviny

 ● Veľká veľkosť a vysoká hustota

Priemerná veľkosť častíc je asi 4-10 mm a veľkosť častíc domácich surovín Acheson je <2,5 mm. Rovnaký objem Crucible môže držať viac ako 1,5 kg surovín, čo vedie k riešeniu problému nedostatočného dodávania rastových materiálov s veľkým veľkosti, zmierňuje grafitizáciu surovín, znižovanie uhlíka a zlepšenie kvality kryštálov.

 ●Nízky pomer SI/C

Je bližšie k 1: 1 ako achesonské suroviny metódy samo-propagujúcej, ktoré môžu znížiť defekty vyvolané zvýšením čiastočného tlaku SI.

 ●Vysoká hodnota

Pestované suroviny stále udržiavajú prototyp, znižujú rekryštalizáciu, znižujú grafitizáciu surovín, znižujú defekty obalu uhlíka a zlepšujú kvalitu kryštálov.

● Vyššia čistota

Čistota surovín produkovaných metódou CVD je vyššia ako čistota surovín Achesonu metódy samoobsluhy. Obsah dusíka dosiahol 0,09 ppm bez ďalšieho čistenia. Táto surovina môže tiež zohrávať dôležitú úlohu v polo-izračnom poli.

● Nižšie náklady

Rovnomerná miera odparovania uľahčuje kontrolu procesu a kvality produktu a zároveň zlepšuje mieru využitia surovín (miera využitia> 50%, 4,5 kg suroviny produkuje 3,5 kg ingots), čím sa znižuje náklady.

 ●Nízka miera ľudskej chybovosti

Chemické ukladanie pary sa vyhýba nečistotám zavedeným ľudskou prevádzkou.

VETEK Semiconductor High Purity CVD SIC Surovinné obchody s výrobkami: