Podpora otáčania grafitu

Picestor doštičiek je nevyhnutnosťou pre proces epitaxiálneho rastu. Počas epitaxného rastu sa substrát s oblátkami umiestni v Spiceptore. Vysoko čistota grafitých rotujúcich susceptorov v polovici V epitaxiálnom raste nitridu gália (proces MOCVD) zohrávajú podpornú úlohu pri rotácii substrátu. Rotačný grafitový Spiceptor spoločnosti Vetek Semiconductor má nasledujúce výhody:

●  High purity: Obsah nečistoty pri vysokokvalitnom náchylnom rotácii grafitov je pod 17 ppm. Táto úroveň čistoty grafitu sa môže vyhnúť uvoľňovaniu nečistôt pri vysokých teplotách, aby sa zabezpečila čistota procesu depozície. Preto nie je potrebný žiadny povlak na splnenie pracovných požiadaviek.

Grafit s vysokou čistotou

● Vynikajúce tepelné vlastnosti: Vysoko čistotný grafit má vynikajúcu tepelnú vodivosť a jeho tepelná vodivosť je oveľa vyššia ako iné materiály. Koeficient tepelnej expanzie je malý a pri zmene teploty môže udržať stabilný výkon.

● Dobré mechanické vlastnosti: Vysoko čistotný grafit má dobrú odolnosť proti opotrebeniu a húževnatosť, ktorá môže spĺňať zložité požiadavky procesu CVD.

● Vynikajúca vodivosť: Vodivosť je stokrát vyššia ako vodivosť všeobecných nekovových minerálov.

● Chemická stabilita: Dokáže odolávať korózii z kyselín, alkálie a organických rozpúšťadiel

Okrem toho, ako popredný výrobca a dodávateľ vysokej čistoty grafit rotujúceho v Číne, Vetek Semiconductor dodáva tiež vysoko kvalitnýGrafitový spietok potiahnutý SIC pre MOCVD, SIC potiahnutý valcami, Podpora grafitov potiahnutého TACaMOCVD SIC Coating Suslector.Vetek Semiconductor sa zaväzuje poskytovať pokročilé technologické a produktové riešenia pre priemysel polovodičov a podporuje aj prispôsobené služby. Úprimne sa tešíme, že sa staneme vašim dlhodobým partnerom v Číne.

Je to polovodičObchody s produktmi rotujúceho strúhania na grafie: