TAC Coating Planetary Suslector

V oblasti výroby polovodičov zohráva zásadnú úlohu planéta TAC Coating Planetár. Všeobecne sa používa pri raste epitaxiálnych vrstiev karbidu kremíka (SIC) v zariadeniach, ako je systém Aixtron G5. Ďalej, ak sa používa ako vonkajší disk v depozícii potiahnutia Tantalum karbidu (TAC) pre SIC Epitaxiu, poskytuje TAC Coating Planetary Svicestor zásadnú podporu a stabilitu. Zaisťuje rovnomerné ukladanie vrstvy karbidu tantalu, čo prispieva k tvorbe vysoko kvalitných epitaxiálnych vrstiev s vynikajúcou morfológiou povrchu a požadovanou hrúbkou filmu. Chemická inertnosť TAC povlaku zabraňuje nežiaducim reakciám a kontaminácii, zachováva integritu epitaxných vrstiev a zabezpečuje ich vynikajúcu kvalitu.

Výnimočná tepelná vodivosť TAC povlaky umožňuje účinný prenos tepla, podporovať rovnomerné rozdelenie teploty a minimalizovať tepelné napätie počas procesu epitaxného rastu. To má za následok výrobu vysokokvalitných SIC epitaxiálnych vrstiev so zlepšenými kryštalografickými vlastnosťami a zvýšenou elektrickou vodivosťou.

Presné rozmery a robustná konštrukcia planétového disku TAC uľahčuje integráciu do existujúcich systémov, čím sa zabezpečuje plynulá kompatibilita a efektívna prevádzka. Jeho spoľahlivý výkon a vysoko kvalitný povlak TAC prispievajú k konzistentným a jednotným výsledkom v procesoch epitaxie SIC.

Dôverujte Vetic Semiconductor a náš disk planéty TAC pre výnimočný výkon a spoľahlivosť v SIC Epitaxy. Zažite výhody našich inovatívnych riešení a umiestnite vás v popredí technologického pokroku v polovodičovom priemysle.