Nová základňa výroby polovodičov VETEK vstupuje do fázy výstavby čistých priestorov

Zhejiang, Čína – jún 2026— Výstavba novej výrobnej základne spoločnosti VETEK dosiahla ďalšiu dôležitú etapu. Po dokončení hlavnej konštrukcie budovy sa teraz práce presunuli na inštaláciu zariadení čistých priestorov na úrovni polovodičov.

Na mieste projektu sa súčasne inštalujú interiérové ​​​​dekorácie, ventilačné systémy, zariadenia na filtráciu vzduchu a inžinierske siete. Viaceré oblasti už vstúpili do fázy prípravy zariadenia.

Práce v čistých priestoroch pokračujú podľa plánu

Nové zariadenie je určené na výrobu polovodičových materiálov a náterových produktov. V porovnaní so súčasnou továrňou poskytne nová prevádzka viac výrobných priestorov a lepšie riadenie toku procesov.

Priestor čistých priestorov bude slúžiť na výrobu náterov, presné obrábanie, čistenie, kontrolu a balenie. Pripravujú sa aj vyhradené plochy pre produkty s vyššími požiadavkami na čistotu.

Stavebné tímy v súčasnosti vykonávajú montáž stropov, úpravu podláh a integráciu nosného systému. Denná práca prebieha podľa harmonogramu projektu.

Presun zariadenia sa očakáva do konca roka

Príprava na sťahovanie zariadení už začala.

Existujúce výrobné zariadenia budú premiestnené do nového zariadenia postupne po dokončení inštalácie čistých priestorov. Súčasťou plánu premiestnenia je aj kalibrácia zariadení, skúšobná výroba a overenie procesov.

Na základe súčasného postupu výstavby sa očakáva ukončenie premiestnenia hlavných výrobných zariadení do konca tohto roka.

Po presťahovaní bude VETEK pokračovať vo výrobe produktov vrátaneCVD SiC povlaky, TaC povlaky, PyC povlaky, Pevné komponenty SiCavysoko čisté grafitové materiálypre polovodičové aplikácie.

Pre tím VETEK nie je nová továreň len väčšou budovou. Ide o výrobnú platformu navrhnutú pre ďalšiu fázu výroby polovodičových materiálov s väčším priestorom pre vývoj procesov, rozširovanie zariadení a budúci rast kapacity.