TAC povlaky Suslec

VETEK Semiconductor TAC Coating Rotácia Suslec je kľúčovým komponentom manipulácie s oblátkami pri spracovaní polovodičov. SvojTac čoNášmá vynikajúcu vysokú teplotnú toleranciu (bod topenia do 3880 ° C), chemickú stabilitu a odolnosť proti korózii, ktoré zabezpečujú vysokú presnosť a vysokú kvalitu pri spracovaní doštičiek.

Stúpanie rotácie TAC (Spiceptor rotácie uhlíka Tantalum) je kľúčový komponent zariadenia používaný pri spracovaní polovodičov. Zvyčajne je nainštalovaný vukladanie chemickej pary (CVD)a zariadenie Epitaxy (MBE) molekulárneho lúča (MBE) na podporu a otáčanie doštičiek, aby sa zabezpečilo rovnomerné ukladanie materiálu a účinnú reakciu. Tento typ produktu významne zlepšuje životnosť a výkon zariadenia v vysokých teplotách a korozívnych prostrediach potiahnutím substrátuTantalum uhlík (TAC) povlak.

Picestor rotácie TAC poťahy sa zvyčajne skladá z povlaku TAC a grafit alebo karbid kremíka ako substrátu. TAC je ultra vysoký teplotný keramický materiál s extrémne vysokým bodom topenia (bod topenia až do 3880 ° C), tvrdosť (tvrdosť Vickers je asi 2000 Hk) a vynikajúca chemická odolnosť proti korózii. VETEK Semiconductor môže účinne a rovnomerne pokryť povlak uhlíka tantalu na materiáli substrátu prostredníctvom technológie CVD.

Stúpanie rotácie je zvyčajne vyrobené z vysokej tepelnej vodivosti a materiálov s vysokou pevnosťou (grafit alebokarbid kremíka), ktoré môžu zabezpečiť dobrú mechanickú podporu a tepelnú stabilitu vo vysokoteplotnom prostredí. Perfektná kombinácia týchto dvoch určuje perfektný výkon spievania rotácie TAC pri podpore a otáčaní doštičiek.

Stúpanie rotácie TAC Coating Spiceptor podopiera a otáča oblátku v procese CVD. Tvrdosť TAC Vickers je asi 2000 HK, čo jej umožňuje odolať opakovanému treniu materiálu a zohrávať dobrú podpornú úlohu, čím sa zabezpečuje rovnomerne rozložené reakčný plyn na povrchu doštičiek a materiál sa rovnomerne ukladá. Súčasne vysoká teplotná tolerancia a odolnosť proti korózii TAC povlaky umožňuje jeho používanie po dlhú dobu pri vysokej teplote a korozívnych atmosférach, čo sa účinne vyhýba kontaminácii oblátky a nosiča.

Okrem toho je tepelná vodivosť TAC 21 W/m · K, ktorá má dobrý prenos tepla. Preto môže spiceptor rotácie TAC povlaky zohriať doštičku rovnomerne za vysokých teplotných podmienok a zabezpečiť rovnomernosť procesu ukladania plynu pomocou rotačného pohybu, čím sa zachová konzistentnosť a vysoká kvalitarast doštičiek.

Tantalum karbid (TAC) povlaky na mikroskopickom priereze：

Fyzikálne vlastnosti povlaku TAC：

TAC Coating Rotation Suslector Obchody: