Konzolové pádla

Ⅰ. Produkt Prehľad použitia

Saddles konzoly SIC sa používajú hlavne vo výrobných zariadeniach polovodičov ako komponenty podpory a prenosu oblátok. Jeho základnou funkciou je stabilne a presne spracovanie kremíkových doštičiek za extrémnych procesných podmienok, ako je vysoká teplota a vysoká korózia, čím sa zabezpečuje hladký a efektívny výrobný proces.

Ⅱ

SIC je pokročilý keramický materiál, ktorého vynikajúce fyzikálne vlastnosti mu dodávajú jedinečnú výhodu v poli polovodičov. Nasledujú kľúčové fyzikálne parametre týkajúce sa konzolových vodákov SIC:

● Vysoká čistota: Použitie materiálu SIC s vysokou čistotou môže minimalizovať kontamináciu procesu a zlepšiť výnos produktu.

● Vynikajúca vysoká teplota odporu: SIC má bod topenia až do 2830 ° C, čo jej umožňuje udržiavať štrukturálnu integritu v extrémnych teplotných prostrediach, ako je leptanie plazmy a vysokoteplotné žíhanie, a dlhodobá prevádzková teplota môže dosiahnuť viac ako 1 000 ° C.

● Vysoká tvrdosť a odolnosť proti opotrebeniu: Tvrdosť MOHS je 9-9,5, druhá iba od spoločnosti Diamond, čo dáva konzolovým vodákom SIC vynikajúcu odolnosť proti opotrebeniu a udržiavajúcu rozmerovú stabilitu počas vysokofrekvenčného prenosu doštičiek.

● Vynikajúca tepelná vodivosť: Tepelná vodivosť SIC keramiky je až 120-250 w/(m · k) (typická hodnota), ktorá môže rýchlo rozptýliť teplo a vyhnúť sa miestnemu prehriatiu, ktoré môže poškodiť oblátku.

● Koeficient nízkej tepelnej expanzie: Koeficient nízkej tepelnej expanzie (približne 4,0 × 10⁻⁶ /k) zaisťuje rozmerovú stabilitu pri zmene teploty, vyhýba sa stresu spôsobenému tepelnou expanziou a kontrakciou, a tým znižuje riziko poškodenia oblátok.

Ⅲ. Aplikačné scenáre konzolových konzolových lopatiek

Unikátne vlastnosti konzolových pádiel SIC im umožňujú zohrávať kľúčovú úlohu vo viacerých prepojeniach výroby polovodičov:

● Zariadenie na leptanie plazmy: V plazmovej leptacej komore slúžia konzolové pádla SIC ako podpery oblátky, ktoré vydržia bombardovanie plazmy a korozívnu eróziu plynu pri zachovaní rozmerovej stability, zabezpečujú presnosť leptania a predĺženie životnosti zariadenia.

● Zariadenie na ukladanie tenkého filmu (CVD/PVD): V procese ukladania chemickej pary (CVD) a ukladania fyzikálneho pary (PVD) sa na podporu doštičiek používajú konzolové pádla SIC. Ich vynikajúca vysoká teplotná odolnosť a tepelná vodivosť pomáhajú rovnomerne zahriať doštičky a zabrániť kontaminácii častíc generovaných počas procesu ukladania tenkého filmu.

● Systém prenosu oblátok: V automatizovanom systéme prenosu doštičiek môžu konzolové pádla SIC vydržať vysokofrekvenčný mechanický pohyb v dôsledku ich vysokej tvrdosti a odporu opotrebovania, čím sa zabezpečuje presný a rýchly prenos doštičiek medzi rôznymi procesnými komorami, čím sa zníži riziko poškodenia doštičiek a kontaminácie.

● Proces žíhania vysokej teploty: V peci žíhania s vysokou teplotou môžu stroje SIC konzoly vydržať ultra vysoké teplotné prostredie, poskytovať stabilnú podporu do oblátok a zabezpečiť rovnomernosť a účinnosť procesu žíhania.

Veteksemicon si dobre uvedomuje prísne požiadavky polovodičových procesov pre kvalitu produktu. Preto podporujeme prispôsobené služby a môžeme poskytovať prispôsobený návrh a výrobu pádla SIC konzoly podľa vašich konkrétnych požiadaviek na vybavenie a procesy. Budeme tiež kontrolovať prísnu kontrolu kvality, aby sme zabezpečili, že každý produkt prechádza prísnymi inšpekciami kvality, aby sa zabezpečilo, že spĺňa najvyššie priemyselné normy.

A čo je dôležitejšie, technický tím Vetek Semiconductor vám poskytne komplexné technické konzultácie a produktové riešenia. Výber nášho konzolového pádla SIC znamená výber vyššej účinnosti výroby, dlhšiu životnosť zariadenia a lepší výnos produktu. Tešíme sa na vašu ďalšiu konzultáciu.