Produkty

Vetek Semiconductor je popredným dodávateľom prispôsobeného Horného Halfmoon Part SIC potiahnutého v Číne a špecializuje sa na pokročilé materiály už viac ako 20 rokov. Vetek Semiconductor Horná polovičná časť potiahnutia SIC je špeciálne navrhnutý pre epitaxiálne vybavenie SIC, ktorý slúži ako rozhodujúca zložka v reakčnej komore. Vyrobené z ultra-puzdru, polovodičového grafitu, zaisťuje vynikajúci výkon. Pozývame vás, aby ste navštívili našu továreň v Číne.

Vetek Semiconductor je popredný dodávateľ nosiča kremíkového karbidu kremíkového karbidu v Číne. Špecializovali sme sa na pokročilý materiál viac ako 20 rokov. Ponúkame kremíkovú karbidovú epitaxnú epitaxiu na prepravu substrátu SIC, rastúca epitaxná vrstva SIC epitaxiálneho reaktora SIC. Tento kremíkový karbid epitaxný oblátkový nosič je dôležitou časťou potiahnutej polovičnej módy, odolnosť proti vysokej teplote, oxidačný odpor, odolnosť proti opotrebeniu. Vítame vás, aby ste navštívili našu továreň v Číne.

Pórovitý grafit s vysokou čistotou poskytnutou spoločnosťou Vetek Semiconductor je pokročilý materiál na spracovanie polovodičov. Je vyrobený z vysokokvalitného uhlíkového materiálu s vynikajúcou tepelnou vodivosťou, dobrou chemickou stabilitou a vynikajúcou mechanickou pevnosťou. Tento pórovitý grafit s vysokou čistotou hrá dôležitú úlohu v procese rastu jednorazového SIC. Vetek Semiconductor sa zaväzuje poskytovať kvalitné výrobky za konkurencieschopné ceny a teší sa, že sa stanete vaším dlhodobým partnerom v Číne.

MOCVD Spiceptor potiahnutý SiC od spoločnosti Vetemicon je zariadenie s vynikajúcim procesom, trvanlivosťou a spoľahlivosťou. Môžu vydržať vysoko teplotné a chemické prostredie, udržiavať stabilný výkon a dlhú životnosť, čím sa znižuje frekvencia výmeny a údržby a zlepšuje účinnosť výroby. Náš epitaxný Sustor MOCVD je známy svojou vysokou hustotou, vynikajúcou rovinnosťou a vynikajúcou tepelnou kontrolou, vďaka čomu je preferované vybavenie v drsnom výrobnom prostredí. Tešíme sa na spoluprácu s vami.

Porézny grafit s potiahnutím TAC je pokročilý materiál na spracovanie polovodičov poskytovaný spoločnosťou Vetek Semiconductor. Porézny grafit s TAC potiahnutými kombinuje výhody povlaku porézneho grafitu a karbidu tantalu (TAC) s dobrou tepelnou vodivosťou a priepustnosťou plynu. Vetek Semiconductor sa zaväzuje poskytovať kvalitné výrobky za konkurencieschopné ceny.

Kryt povlaku z karbidu Tantalum sa skladá z vysoko čistiaceho grafitu a povlaku TAC. Vetek Semiconductor je popredným dodávateľom a výrobcom pokrytia povlaku karbidu Tantalum v Číne. Zameriavame sa na poskytovanie vysokokvalitných a vysokoteplotných výrobkov tantalu karbidu rezistentných na vysokej teploty. Náš kryt potiahnutý karbidom Tantalum má vynikajúci výkon a spoľahlivosť a môže účinne chrániť materiály v extrémne vysokých teplotách a korozívnych prostrediach. Tešíme sa, že sa staneme vaším dlhodobým partnerom v Číne. Vitajte na konzultácii kedykoľvek.