Vysoko čistý grafitový prášok

Vetek Semiconudctor poskytuje vysoko čistý grafitový prášok s vysokou čistotou a prispôsobenou veľkosťou častíc pre rôzne priemyselné odvetvia vrátane polovodičových aplikácií.

Grafit prachovo jemný, čiernošedá; Mastný, môže znečistiť papier. Tvrdosť je 1 ~ 2 a tvrdosť sa môže zvýšiť na 3 ~ 5 vo vertikálnom smere s nárastom nečistôt. Špecifická hmotnosť je 1,9 až 2,3. V podmienkach izolácie kyslíka je jeho bod topenia nad 3000 °C, čo je jeden z minerálov odolných voči vysokým teplotám.

Vysoko čistý grafitový prášok Vetek semiconductor je vysoko kvalitný produkt s čistotou až 5 ppm. Prísne kontrolujeme obsah nečistôt v našich materiáloch, aby sme zaistili, že spĺňajú najvyššie priemyselné štandardy. Náš grafitový prášok je možné prispôsobiť podľa morfológie častíc, čo umožňuje väčšiu flexibilitu pri používaní. Používa sa hlavne na syntézu práškového karbidu kremíka a syntézu diamantov. Vysoká čistota a presná distribúcia veľkosti častíc našich produktov ich robí ideálnymi pre zákazníkov v polovodičovom, elektronickom a high-tech priemysle.

Vetek semiconductor vždy poskytoval jemné prášky s extrémne vysokou čistotou a vynikajúcou vysokou kryštalinitou, čo hrá úlohu vo viacerých odvetviach, najmä v polovodičovom priemysle. Naše práškové produkty ponúkajú široký sortiment od 1 do 100 mikrónov a zahŕňajú 99,999% ultra vysokú čistotu, aby vyhovovali základným aplikáciám zákazníkov vo všetkých oblastiach.

Jemný prášok sa vyrába prostredníctvom integrovaného výrobného systému od spracovania surovín až po hotový výrobok, pričom sa plne využívajú najnovšie špičkové výrobné zariadenia a naša jedinečná technológia spracovania na vysokej úrovni. V rámci jednotného riadenia výroby sú suroviny drvené na úroveň 1 až 100 mikrónov, v závislosti od aplikácie, pomocou ultrajemného brúsneho a triediaceho zariadenia. Prostredníctvom procesu triedenia sa zo surovín vyrábajú sofistikované produkty.

Vysoko čistý grafitový prášok má dobrú chemickú stabilitu. S dobrou odolnosťou proti korózii, dobrou tepelnou vodivosťou a nízkou priepustnosťou je široko používaný pri výrobe výmenníkov tepla, reakčných nádrží, kondenzátorov, spaľovacích veží, absorpčných veží, chladičov, ohrievačov, filtrov, čerpadiel a iných zariadení.

Vzhľadom na malý koeficient tepelnej rozťažnosti grafitového prášku a zmeny teplotných šokov sa zvyčajne používa v peciach na rast kryštálov, ako je monokryštalický kremík, regionálne rafinačné nádoby, držiaky, indukčné ohrievače atď., ktoré sa spracovávajú z vysoko čistého grafitu. Okrem toho sa grafit môže použiť aj ako vákuovo taviaca grafitová izolačná doska a základňa, rúrka pre vysokoteplotnú pec, tyč, platňa, mriežka a ďalšie komponenty.

Výrobný závod VeTek Semiconductor: