TAC potiahnutý doštičkový spicestor

VETEK Semiconductor TAC potiahnutý doštičkový spietok je kľúčovým komponentom používaným vDepozícia chemickej pary kov-organická (MOCVD)reaktory prePolovodičové epitaxiálne procesy (EPI). Táto špecializovaná okrúhla základňa je vyrobená z vysoko kvalitného grafitu a je potiahnutá vrstvou karbidu tantala (TAC), ktorá je známa svojimi výnimočnými tepelnými a chemickými vlastnosťami.

Primárnou funkciou povlaku TAC je zlepšenie výkonu a trvanlivosti spiceptora doštičiek za tvrdých podmienok výroby polovodičov. Tantalum karbid je známy svojou tvrdosťou, vysokým roztavením a vynikajúcou odolnosťou proti opotrebeniu, vďaka čomu je ideálnou ochrannou vrstvou. Tento náter chráni podkladovú grafitovú bázu od korozívnych chemických reakcií a mechanických napätí, ktoré sa vyskytujú v rámciReaktory MOCVD, Rozšírenie životnosti zariadenia a zlepšenie spoľahlivosti.

Počas epitaxného rastu polovodičových materiálov hrá TAC potiahnutú doštičkovú látku dôležitú úlohu tým, že zabezpečuje presné ukladanie filmu. Jeho odolnosť voči vysokým teplotám a drsným chemickým prostredím je rozhodujúca pre presnú výrobu polovodičových zariadení, čo umožňuje zariadeniu stabilne fungovať v náročných podmienkach procesu.

Kombinácia agrafitaNáter TACZaisťuje rovnomerné rozloženie tepla v celom Stúpení, ktoré je nevyhnutné na zlepšenie opakovateľnosti a kvality polovodičových vrstiev pestovaných počas procesu MOCVD. Tento pokročilý dizajn materiálu poskytuje nielen trvanlivosť, ale tiež spĺňa prísne požiadavky modernej výroby polovodičov pre vysokovýkonné elektronické komponenty.

Ako popredný dodávateľ a výrobca oblátok TAC potiahnutých oblátkov TAC sa Vetek Semiconductor zaväzuje poskytovať vysoko kvalitné technické riešenia pre polovodičový priemysel. Tešíme sa, že sa staneme vašim dlhodobým dôveryhodným partnerom v Číne a ponúkame spoľahlivé a prispôsobené produkty.

Vetek Semiconductor TAC potiahnutý oblátkovými obchodmi: