Správy

Správy

Sme radi, že sa s vami môžeme podeliť o výsledky našej práce, novinky o spoločnosti a včas vám poskytneme informácie o vývoji a podmienkach menovania a sťahovania zamestnancov.
Aký je rozdiel medzi aplikáciami karbidu kremíka (SIC) a nitridom gallium (GAN)? - Vetek polovodič10 2024-10

Aký je rozdiel medzi aplikáciami karbidu kremíka (SIC) a nitridom gallium (GAN)? - Vetek polovodič

SIC a GAN sú široké bandgap polovodičy s výhodami oproti kremíku, ako sú vyššie rozdeľovacie napätie, rýchlejšie rýchlosti prepínania a vynikajúca účinnosť. SIC je lepší pre vysoké napätia, vysokorýchlostné aplikácie kvôli svojej vyššej tepelnej vodivosti, zatiaľ čo GAN vyniká vo vysokofrekvenčných aplikáciách vďaka svojej vynikajúcej mobilite elektrónov.
Princípy a technológia fyzikálneho nanášania pár (PVD) povlakov (2/2) - VeTek Semiconductor24 2024-09

Princípy a technológia fyzikálneho nanášania pár (PVD) povlakov (2/2) - VeTek Semiconductor

Odparovanie elektrónovým lúčom je vysoko účinný a široko používaný spôsob poťahovania v porovnaní s odporovým ohrevom, ktorý ohrieva odparovací materiál elektrónovým lúčom, čo spôsobuje jeho odparovanie a kondenzáciu do tenkého filmu.
Princípy a technológie povlaku na ukladanie fyzických pár (1/2) - Vetek24 2024-09

Princípy a technológie povlaku na ukladanie fyzických pár (1/2) - Vetek

Vákuové povlaky zahŕňa odparovanie materiálu filmu, vákuovú dopravu a rast tenkého filmu. Podľa rôznych metód odparovania filmu a prepravných procesov je možné vákuové povlaky rozdeliť do dvoch kategórií: PVD a CVD.
Čo je pórovitý grafit? - Vetek polovodič23 2024-09

Čo je pórovitý grafit? - Vetek polovodič

Tento článok popisuje fyzikálne parametre a charakteristiky produktu porézneho grafitu Vetric Semiconductor, ako aj jeho špecifické aplikácie pri spracovaní polovodičov.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept